Menu Web

Carian Produk

Bahasa

Kongsi

Plat Tungsten

Rumah / produk / Siri Tungsten / Plat Tungsten

PRODUK

hubungi Kami

Tel:

+86-576-84352333

E-mel:

[email protected]

Faks:

+86-523-88642288

Tambah:

Zon Perindustrian Yuduo, Daerah Jiangyan, Bandar Taizhou, Wilayah Jiangsu

Plat Tungsten

Temui dunia plat tungsten, kelas bahan penting yang terkenal dengan sifat luar biasa mereka. Plat tungsten mempunyai kilauan perak-putih dan berfungsi dengan baik dalam aplikasi suhu tinggi kerana kekuatannya dan pekali pengembangan yang rendah. Mereka mempunyai takat lebur dan kekerasan yang sangat tinggi, memastikan ketahanan dalam persekitaran yang keras. Plat tungsten juga mempunyai kekonduksian elektrik dan sifat kimia yang stabil, menjadikannya komponen penting dalam industri seperti aeroangkasa, elektronik dan pembuatan. Lembaran ini mempunyai modulus keanjalan yang tinggi dan tekanan wap yang rendah, memainkan peranan penting dalam aplikasi di mana ketepatan, kestabilan dan keanjalan adalah kritikal.
Tentang
Taizhou Huacheng Tungsten And Molibdenum Manufacture Co., Ltd.
Taizhou Huacheng Tungsten And Molibdenum Manufacture Co., Ltd.
Taizhou Huacheng Tungsten and Molybdenum Produk Co., Ltd. ialah sebuah syarikat profesional yang menghasilkan produk siri tungsten dan molibdenum. Syarikat itu pakar dalam pengeluaran bahagian berbentuk khas tungsten dan molibdenum, aloi tungsten berketumpatan tinggi, aloi tungsten-kuprum, dan penyelidikan dan pembangunan bahan tungsten-molibdenum baharu.
Maklum Balas Mesej
Berita
Pengetahuan industri
Adakah terdapat formulasi aloi khusus atau komposisi plat tungsten tersedia untuk aplikasi yang disesuaikan?
Terdapat rumusan atau komposisi aloi khusus bagi plat tungsten tersedia untuk memenuhi keperluan pelbagai aplikasi yang disesuaikan. Aloi tungsten selalunya dicipta dengan menggabungkan tungsten dengan unsur lain untuk mencapai sifat yang diingini seperti kemuluran yang lebih baik, kebolehmesinan atau prestasi yang dipertingkatkan dalam persekitaran tertentu. Beberapa aloi tungsten yang biasa digunakan dalam bentuk plat termasuk:
Aloi Berat Tungsten (W-Ni-Fe atau W-Ni-Cu):
Komposisi: Aloi ini biasanya terdiri daripada tungsten yang digabungkan dengan nikel dan besi (W-Ni-Fe) atau tungsten dengan nikel dan kuprum (W-Ni-Cu).
Sifat: Aloi berat tungsten mempunyai ketumpatan tinggi dan sifat mekanikal yang baik. Ia digunakan dalam aplikasi seperti komponen aeroangkasa, pelindung sinaran dan pemberat pengimbang.
Aloi Kuprum-Tungsten (Cu-W):
Komposisi: Aloi tembaga-tungsten menggabungkan tungsten dengan kuprum, selalunya dalam nisbah yang berbeza-beza.
Sifat: Aloi ini mempamerkan keseimbangan kekonduksian elektrik dan haba yang tinggi daripada kuprum dan kekerasan dan rintangan haus tungsten. Ia digunakan dalam sesentuh elektrik, elektrod, dan pelbagai aplikasi aeroangkasa dan ketenteraan.
Aloi Perak-Tungsten (Ag-W):
Komposisi: Aloi perak-tungsten menggabungkan tungsten dengan perak.
Sifat: Aloi ini menawarkan keseimbangan kekonduksian elektrik daripada perak dan takat lebur yang tinggi serta ketahanan tungsten. Mereka mencari aplikasi dalam kenalan elektrik dan suis.
Aloi Molibdenum-Tungsten (Mo-W):
Komposisi: Aloi molibdenum-tungsten menggabungkan tungsten dengan molibdenum.
Sifat: Aloi ini mungkin menawarkan kestabilan suhu tinggi dan sifat mekanikal yang lebih baik berbanding dengan tungsten tulen. Ia digunakan dalam aplikasi seperti komponen relau suhu tinggi.
Aloi Lanthanum-Tungsten (La-W):
Komposisi: Aloi Lanthanum-tungsten menggabungkan tungsten dengan lanthanum.
Sifat: Aloi ini terkenal dengan kekuatan dan kestabilan suhu tinggi. Mereka menemui aplikasi dalam persekitaran suhu tinggi, seperti aeroangkasa dan pertahanan.
Aloi Tungsten Bumi Nadir:
Komposisi: Aloi yang menggabungkan unsur nadir bumi dengan tungsten.
Sifat: Aloi nadir bumi-tungsten mungkin menunjukkan sifat khusus, seperti kekuatan suhu tinggi yang dipertingkatkan atau rintangan kakisan yang dipertingkatkan, bergantung pada komposisi yang tepat. Mereka boleh digunakan dalam pelbagai aplikasi khusus.
Aloi Tantalum-Tungsten (Ta-W):
Komposisi: Aloi Tantalum-tungsten menggabungkan tungsten dengan tantalum.
Sifat: Aloi ini boleh memberikan rintangan kakisan yang dipertingkatkan dan kestabilan suhu tinggi. Ia digunakan dalam aplikasi di mana penentangan terhadap persekitaran kimia yang agresif adalah penting.
Aloi Nikel-Tungsten (Ni-W):
Komposisi: Aloi nikel-tungsten menggabungkan tungsten dengan nikel.
Sifat: Aloi ini boleh menawarkan keseimbangan sifat seperti kemuluran dan keliatan yang lebih baik berbanding dengan tungsten tulen. Ia boleh digunakan dalam pelbagai aplikasi perindustrian dan elektronik.
Pilihan aloi tungsten khusus untuk aplikasi yang disesuaikan bergantung pada gabungan sifat yang dikehendaki yang diperlukan untuk aplikasi itu. Sebagai contoh, jika keseimbangan ketumpatan tinggi dan kekuatan mekanikal diperlukan, aloi berat tungsten boleh dipilih.


Bolehkah Plat Tungsten digunakan sebagai bahan sasaran untuk teknik pemendapan filem nipis?
Plat Tungsten boleh digunakan sebagai bahan sasaran untuk teknik pemendapan filem nipis, khususnya dalam proses yang dikenali sebagai pemendapan wap fizikal (PVD). Kaedah PVD, seperti sputtering, biasanya digunakan untuk mendepositkan filem nipis pelbagai bahan ke substrat. Tungsten sering dipilih sebagai bahan sasaran untuk sifat yang menguntungkan, termasuk takat lebur yang tinggi, kestabilan terma, dan keserasian dengan proses sputtering. Berikut adalah beberapa pertimbangan utama:
Proses Sputtering:
Pemendapan Wap Fizikal (PVD): Sputtering ialah teknik PVD di mana ion daripada plasma mengebom bahan sasaran, mencabut atom atau molekul dari permukaan sasaran. Zarah-zarah yang tercabut ini kemudiannya memendap sebagai filem nipis pada substrat yang diletakkan berdekatan.
Kelebihan Tungsten sebagai Bahan Sasaran:
Takat Lebur Tinggi: Tungsten mempunyai takat lebur yang sangat tinggi (kira-kira 3,422°C atau 6,192°F), menjadikannya sesuai untuk proses pemendapan suhu tinggi.
Kestabilan Terma: Tungsten adalah stabil dari segi haba, memastikan ia kekal dalam keadaan pepejal di bawah keadaan proses sputtering.
Aplikasi:
Industri Semikonduktor: Filem nipis tungsten yang didepositkan oleh sputtering digunakan secara meluas dalam industri semikonduktor. Ia boleh digunakan untuk pelbagai tujuan, termasuk penciptaan interkoneksi dan lapisan logam dalam litar bersepadu.
Sasaran Sputtering Tungsten:
Geometri Sasaran: Sasaran tungsten untuk sputtering biasanya tersedia dalam pelbagai geometri, seperti sasaran planar atau berputar, bergantung pada keperluan khusus sistem pemendapan.
Tahap Ketulenan: Sasaran tungsten ketulenan tinggi selalunya diutamakan untuk meminimumkan kekotoran dalam filem termendap, memastikan sifat filem nipis yang dikehendaki.
Ciri-ciri Filem:
Lekatan dan Keseragaman: Filem nipis tungsten yang didepositkan menggunakan sasaran sputtering tungsten mempamerkan lekatan yang baik pada substrat dan ketebalan seragam merentasi permukaan bersalut.
Struktur Filem: Proses sputtering membolehkan kawalan ke atas struktur mikro dan sifat filem tungsten yang didepositkan.
Keserasian dengan Substrat Berbeza:
Bahan Substrat: Filem nipis tungsten boleh didepositkan pada pelbagai bahan substrat, termasuk wafer silikon, kaca dan bahan lain yang biasa digunakan dalam industri elektronik.
Sistem Pemendapan:
Sputtering Magnetron: Sputtering Magnetron ialah teknik yang biasa digunakan untuk menyimpan filem nipis tungsten. Ia melibatkan penggunaan medan magnet untuk meningkatkan kecekapan proses sputtering.
Aplikasi Khusus:
Lapisan Penghalang: Filem nipis tungsten sering digunakan sebagai lapisan penghalang dalam peranti semikonduktor untuk menghalang resapan bahan antara lapisan yang berbeza.
Saling Sambung: Tungsten digunakan sebagai bahan untuk sambung logam dalam nod teknologi semikonduktor termaju.
Mari Berbincang Tentang Keperluan Projek Anda
Dapatkan Pertanyaan OR